| 規律 | フォトニクス、材料科学、光学 |
|---|---|
| 言語 | 英語 |
| 編集者 | ベン・エグルトン |
| 出版の詳細 | |
| 歴史 | 2016年~現在 |
| 出版社 | アメリカ物理学会 (米国) |
| 頻度 | 毎月 |
| はい | |
| 5.4(2023年) | |
| 標準的な略語ISO 4 ( alt ) · Bluebook ( alt ) NLM ( alt ) · MathSciNet ( alt | |
| ISO 4 | APLフォトニクス |
| インデックス作成CODEN ( alt ) · JSTOR ( alt ) · LCCN ( alt ) MIAR · NLM ( alt ) · Scopus · W&L | |
| コーデン | APPHD2 |
| ISSN | 2378-0967 |
| LCCN | 2015201937 |
| OCLC 番号 | 969763908 |
| リンク | |
APL Photonicsは、アメリカ物理学会が発行する査読付きオープンアクセス科学誌です。編集長はベン・エグルトン(シドニー大学ナノ研究所)です。本誌は、フォトニクスのあらゆる側面に関する基礎研究と応用研究を網羅しています。 [ 1 ]
このジャーナルは、Science Citation Index Expandedに抄録・索引されています。[ 2 ] Journal Citation Reportsによると、このジャーナルの2023年のインパクトファクターは5.4です。[ 3 ]