代数幾何学において、スキームの閉浸漬とは、 Xの各点x がYの開アフィン近傍U を持ち、そのイデアルが長さrの正則列によって生成されるような場合、余次元rの正則埋め込みである。余次元 1 の正則埋め込みは、まさに実効カルティエ因子である。
例えば、XとYがスキームS上で滑らかであり、 iがS射である場合、iは正則埋め込みである。特に、滑らかな射のすべての断面は正則埋め込みである。[1]が正則スキームに正則埋め込まれている場合、Bは完全交差環である。[2]
この概念は、例えば、フルトンの交差理論へのアプローチにおいて本質的な形で用いられている。重要な事実は、i が正則埋め込みのとき、I がYにおけるXの理想層であるならば、の双対である正規層 は局所的に自由(したがってベクトル束)であり、自然写像は同型である、すなわち正規錐は正規束と一致するということである。
例として、等次元でないスキームがあります。例えば、次のスキームは
は と の和集合です。すると、 - 軸上の任意の非原点を取ると次元 になり、 - 平面上の任意の非原点を取ると次元 になるため、埋め込みは正則ではありません。
有限型の射が(局所)完全交差射であるとは、 Xの各点x が開アフィン近傍Uを持ち、 f | Uが となるような射手であるときである。ここでjは正則埋め込みであり、gは滑らかな射である。 [3] 例えば、f が滑らかな多様体間の射である場合、f はとなる。ここで最初の写像はグラフ射であり、したがって は完全交差射である。この定義は、平坦射の特殊なケースに対する EGA IV の定義と整合している点に注意されたい。[4]
を大域的因数分解を許容する局所完全交差射とする。これは、が正則埋め込みと滑らかな射である合成である。このとき、仮想接束はX上のベクトル束のグロタンディーク群の元であり、次のように与えられる:[5]
ここでは の相対接線層 ( は滑らかなので局所的に自由)であり、 は正規層 (におけるの理想層)であり、 は正則埋め込みな ので局所的に自由です 。
より一般に、がスキームの任意の局所完全交差射である場合、そのコ タンジェント複素数はTor-振幅 [-1,0] の完全である。さらに、が局所的に有限型かつ局所ノイザンである場合、逆もまた真である。[6]
これらの概念は、例えばグロタンディーク・リーマン・ロッホの定理で使用されます。
SGA 6 Exposé VII では、正規埋め込みの概念の次のようなやや弱い形式が使用されています。これは、上記で Noetherian スキームに対して示したものと一致しています。
まず、可換環A上の射影加群 Eが与えられたとき、A線型写像は、それによって決定されるコシュル複体が次元 > 0 で非巡回的であるとき(したがって、 uの余核の分解であるとき)、コシュル正則と呼ばれます。[7] 次に、閉じた浸漬は、それによって決定されるイデアル層が、局所的に有限の自由A加群Eと、 Eからイデアル層へのコシュル正則な射影が存在するとき、コシュル正則と呼ばれます。[8]
SGA 6 [9]では、 局所完全交差写像の定義にこのコシュル正則性が使われました。そこには、この論文で前述した定義をコシュル正則性が置き換えることを意図していたこと、また、この定義は元々、すでに出版されているEGA IV [10]に登場していたことが示されています。
(この疑問が生じるのは、非ノイザン環の場合、関連する素数の理論を使用できないため、零因子の議論が難しいためです。)