ジョン・オルロフ
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ジョナサン・ハリス・オルロフ（1942年生まれ）は、アメリカの物理学者、作家、教授です。ニューヨーク市生まれ。父モンフォード・オルロフの長男であり、兄にピアニストのキャロル・オルロフ、母に歴史家のチェスター・オルロフがいます。オルロフは、荷電粒子光学、電界放出過程の応用、高輝度電子・イオン源、集束イオンビーム・電子ビーム、そしてそれらのマイクロマシニング、表面分析、顕微鏡検査、半導体デバイス製造用計測機器開発への応用を主要研究分野で知られています。
キャリア
オルロフは 1964 年にMITで物理学の学士号を取得し、1977 年にオレゴン大学院センターで応用物理学の博士号を取得しました。
学位取得の合間に、彼はピッツバーグ大学で実験原子核物理学を学び、1970年から静電レンズを備えた透過型電子顕微鏡の販売を試みていた小さな会社で働きました。
TEM事業は失敗に終わり、1973年に断念された。オルロフは電子光学に興味を抱き、1974年にリンウッド・W・スワンソンの指導の下、OGCで博士号を取得した。[ 1 ] 1978年から1985年まで、オレゴン大学院センターの応用物理学の准教授とヒューズ研究所のコンサルタントを務めた。
1984年から1993年まで、応用物理学・電気工学科の教授を務めた。1985年夏、フランス国立科学研究センター（CNRS）バニューの微細構造・マイクロエレクトロニクス研究所に客員研究員として招聘された。OGC在籍中、彼は高解像度の集束イオンビーム（FIB）技術を開発し、FEI社で光学設計に従事した。FEI社では4人目のパートナーを務め、取締役も務めた。
父のモンフォード・オルロフは1997年に退職するまでFEIの会長を務めた。オルロフは1993年から2006年に退職するまでメリーランド大学カレッジパーク校の電気・コンピュータ工学部の教授だった。 [ 2 ] 80以上の出版物を執筆または共著しており、その中にはScientific Americanの記事や、自身が編集者を務める『Handbook of Charged Particle Optics 』、LW SwansonおよびMW Utlautと共著した『High Resolution Focused Ion Beams』などがある。オルロフはメリーランド大学カレッジパーク校の名誉教授である。
所属組織
- 電子・イオン光子ビーム・ナノテクノロジー会議の諮問委員会。以前は会議議長を務めていた。
- 電気電子学会
- アメリカ科学振興協会
受賞歴
- 全米科学財団物理学分野大統領若手研究者賞（1984年）。
- IBM 社電子光学優秀賞 (1983 年)
- IEEEフェロー（2001）
- AAASフェロー（2001）
主要出版物の書誌
- Orloff, Jon; Swanson, LW; Utlaut, M. (1996). 「集束イオンビームによる画像解像度の基本的限界」. Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures . 14 (6). American Vacuum Society: 3759. Bibcode : 1996JVSTB..14.3759O . doi : 10.1116/1.588663 . ISSN 0734-211X .
- ワン・リー、オルロフ・ジョン、タン・ティアントン (1995). 「集束イオンビームシステム用空間電荷デバイスの研究」.真空科学技術ジャーナル B: マイクロエレクトロニクスとナノメートル構造. 13 (6). アメリカ真空協会: 2414. Bibcode : 1995JVSTB..13.2414W . doi : 10.1116/1.588011 . ISSN 0734-211X .
- オルロフ, ジョン( 1993). 「高解像度集束イオンビーム」. Review of Scientific Instruments . 64 (5). AIP Publishing: 1105–1130 . Bibcode : 1993RScI...64.1105O . doi : 10.1063/1.1144104 . ISSN 0034-6748 .
- Sato, M.; Orloff, J. (1992). 「光学系の理論的分解能に関する新しい概念、実験との比較、そして点光源の最適条件」Ultramicroscopy . 41 ( 1– 3). Elsevier BV: 181– 192. doi : 10.1016/0304-3991(92)90107-u . ISSN 0304-3991 .
- Sato, M.; Orloff, J. (1991). 「荷電粒子ビームの電流密度の計算法と有限な線源サイズ、球面収差および色収差が集束特性に及ぼす影響」Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures . 9 (5). American Vacuum Society: 2602. Bibcode : 1991JVSTB...9.2602S . doi : 10.1116/1.585700 . ISSN 0734-211X .
- Orloff, J.; Li, J.-Z.; Sato, M. (1991). 「集束イオンビームプローブのサイズに関する実験的研究と理論との比較」Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures . 9 (5). American Vacuum Society: 2609. Bibcode : 1991JVSTB...9.2609O . doi : 10.1116/1.585701 . ISSN 0734-211X .
- J. Puretz、RK De Freez、RA Elliot、J. Orloff、および TL Paoli、「300 mW 動作の表面発光位相ロック ダイオード レーザー アレイ」、Electronic Letters、1987 年 1 月 29 日、第 23 巻、第 3 号、pp. 130–131。
- Sudraud, P.; Orloff, J.; Benassayag, G. (1986). 「炭素含有ガスと二次電子衝撃が液体金属イオン源に及ぼす影響」 . Le Journal de Physique Colloques . 47 (C7). EDP Sciences: 381– 387. doi : 10.1051/jphyscol:1986765 . ISSN 0449-1947 . S2CID 97835058 .
- Orloff, J.; Swanson, LW (1979). 「電界放出マイクロプローブ応用のための非対称静電レンズ」. Journal of Applied Physics . 50 (4). AIP Publishing: 2494– 2501. Bibcode : 1979JAP....50.2494O . doi : 10.1063/1.326260 . ISSN 0021-8979 .
- Orloff, J.; Swanson, LW (1978). 「電界イオン化による微細焦点イオンビーム」. Journal of Vacuum Science and Technology . 15 (3). American Vacuum Society: 845–848 . Bibcode : 1978JVST...15..845O . doi : 10.1116/1.569610 . ISSN 0022-5355 .
- 高解像度集束イオンビーム：FIBとその応用、L. Swanson、M. Utlaut共著、2003年、Springer Press、ニューヨーク
- 荷電粒子光学ハンドブック、CRC プレス、ボカラトン 1 版 (1997 年)、2 版 (2009 年)、J. オルロフ編。
参考文献
- ^ JH Orloff、「電界イオン化源を備えた走査型イオン顕微鏡」、博士論文、オレゴン大学院センター、1976年12月、p 168-9。
- ^メリーランド大学電気・コンピュータ工学部 2010年6月7日アーカイブ- Wayback Machine
