ナノ・マイクロデバイスセンター

ナノ・マイクロデバイスセンター
タイプ研究センター
設立2008
会長ロバート・リンドキスト
監督ジョン・D・ウィリアムズ
教員
10
管理スタッフ
6
大学院生16
位置北緯34度43分22秒 西経86度38分19秒 / 北緯34.72278度、西経86.63861度 / 34.72278; -86.63861
キャンパスアラバマ大学ハンツビル校メインキャンパス
Webサイトhttp://nmdc.uah.edu
地図

ナノ・マイクロデバイスセンター(NMDC)は、アラバマ大学ハンツビル校にある研究センターです。このセンターは、同大学におけるナノテクノロジー研究の中核を担っています。レベル4のクリーンルームをはじめ、複数の研究施設を運営しています。

目的

このセンターの目的は、電気工学、化学工学、材料工学、生物学、化学、物理学の専門知識を効果的に統合し、微小電気機械システム(MEMS)とナノテクノロジーの分野の開発と研究を行うことです。[ 1 ] [ 2 ]

設備

クリーンルーム施設内の反応性イオンエッチング装置(RIE)

このセンターは、薄膜堆積、フォトリソグラフィー、ドライエッチングおよびウェットエッチング、計測測定を行う微細加工装置を備えたクリーンルームを運営しています。また、ウェットエッチング、電気めっき、多孔質シリコン製造のための暗室も備えています。これらの施設は、アラバマ州北部に拠点を置く組織によって利用されています。このようなクリーンルームレベルで行われるプロセスは、以下のように分類できます。[ 3 ]

  • リソグラフィ: このカテゴリのプロセスには、従来の UV リソグラフィ技術、電子ビーム リソグラフィ、および投影リソグラフィが含まれます。
  • 材料堆積プロセス: このカテゴリには、スパッタリング、熱蒸着、電気メッキのプロセスが含まれます。生物学的分子や二重膜を堆積するその他の技術には、ラングミュア・ブロジェット技術が含まれます。
  • 材料除去プロセス: 反応性イオンエッチングなどのドライエッチング、または KOH 浴槽でのシリコンの異方性エッチングなどのウェットエッチングが含まれます。
  • 表面分析および特性評価: 原子間力顕微鏡、走査型電子顕微鏡、共焦点顕微鏡、偏光解析法、UV、IR、ラマン分光法、X 線分光法などの技術。
  • コンピューティング

参考文献