PCMOS

半導体製造技術

確率的相補型金属酸化膜半導体PCMOS)は、ライス大学クリシュナ・パレム教授(NTU持続可能ナノエレクトロニクス研究所(ISNE)所長)によって発明された半導体製造技術です。この技術は、現在のCMOS技術に対抗することを目指しています。支持者たちは、この技術は現在の最速技術の7倍の速度で動作しながら、消費電力は30分の1であると主張しています。[1] [2] [3]

PCMOSベースのシステムオンチップアーキテクチャは、ハイパー暗号化ベイジアンネットワーク、ランダムニューラルネットワーク、確率的セルオートマトンなどの確率的アルゴリズムに基づくアプリケーションにおいて、競合するエネルギー効率の高いCMOSベースの実現と比較して、最大560倍もの大幅な乗数によるゲインが得られることが示されました。[4]

参考文献

  1. ^ 「科学者ら、エネルギー消費量を30分の1に抑えた画期的なマイクロチップを開発」Phys.org. 2009年。
  2. ^ 「革新的なマイクロチップ、消費電力を30分の1に削減」ライス大学。2012年2月18日時点のオリジナルよりアーカイブ。
  3. ^ 「2009年に報道されなかったテクノロジー関連ニューストップ10」InfoWorld、2009年12月28日。
  4. ^ ラクシュミ・N・チャクラパニ;ビルジ ES アクグル;スレシュ・チーマラバグ。ピナール・コルクマズ。クリシュナ・V・パレム。バラスブラマニアン・セシャサイイー。確率的 CMOS (PCMOS) テクノロジーに基づく超効率的な組み込み SOC アーキテクチャ。ヨーロッパ会議における設計自動化およびテスト (DATE)、2006 年。CiteSeerX 10.1.1.130.7547土井:10.1109/DATE.2006.243978。ISBN  3-9810801-1-4
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