シリリジン

シリリジン
名前
IUPAC名
シリリジン
IUPAC体系名
λ 1 -シラン
その他の名前
ヒドリドシリコン、シリリジン
識別子
3Dモデル(JSmol
チェビ
ケムスパイダー
254
  • InChI=1S/HSi/h1H
    キー: QHGSGZLLHBKSAH-UHFFFAOYSA-N
  • [SiH]
プロパティ
H Si
モル質量29.093  g·mol −1
特に記載がない限り、データは標準状態(25 °C [77 °F]、100 kPa)における材料のものです。

シリリジンは、恒星中に分子として存在し、おそらく星間空間にも存在する、あるいは固体シリコン表面に単分子層として存在する化学物質です。SiH分子はラジカルであり、低圧水素ガス中でシリコンに電気アークを照射することで実験的に生成できます。[ 1 ]

表面

シリコンをフッ化水素酸で洗浄すると、表面層としてシリコン水素化物が形成されます。これらの水素化物は750 Kに加熱するとSiHに分解します。[ 2 ]シリコン表面を水素でコーティングする他の方法としては、原子状水素または高温シランとの反応があります。[ 3 ] (111)結晶面は純粋な一水素化物で覆われますが、シリコン結晶の他の面には二水素化物基や三水素化物基も存在します。[ 3 ]

グループ

シリリジン基(シリリジンと混同しないでください)は、三重結合で結合した≡SiH基です。水素は他の基に置換することができ、より一般的なシリリジンファミリーを形成します。モリブデンの配位子として知られています。

自然発生

宇宙におけるシリリジンは、 1933年に太陽黒点において初めて発見されました。その後、太陽面、光球、そして低温の恒星においても発見されました。M型またはS型のミラ変光星は、SiHの輝線を持つことがあります。さらに低温の褐色矮星や惑星では、SiHは見つかりませんが、代わりに低圧下では一酸化ケイ素、高圧下ではSiH 4としてケイ素が形成されます。これらの天体では、SiOやSiH 4が水と反応する際に、微量のSiHが一時的な化学種として見つかることがあります。[ 4 ]

プロパティ

Si-H結合強度は80 kcal/molである。[ 3 ]

スペクトラム

最も顕著なスペクトル帯はA 2 Δ → X 2 Π遷移によるものである。より高次の励起状態はB 2 Σ とC 2 Σ +、D 2 Δ、E 2 Σ +である。[ 4 ]

A状態にある分子の寿命は530ナノ秒です。X基底状態に崩壊します。[ 4 ]

参考文献

  1. ^ Rochow, EG (2013). 『シリコンの化学:ペルガモン国際科学技術工学社会学図書館』 エルゼビア. ISBN 9781483187556
  2. ^ Sun, XH; Wang, SD; Wong, NB; Ma, DDD; Lee, ST; Teo, Boon K. (2003年4月). 「FTIR分光法によるシリコンナノワイヤの水素終端表面の安定性と反応性に関する研究」.無機化学. 42 (7): 2398– 2404. doi : 10.1021/ic020723e . PMID 12665376 . 
  3. ^ a b c Cheng, CC; Yates, JT (1991). 「Si(100)上の水素誘起表面再構築:高次水素化物の形成」(PDF) . Physical Review B. 43 ( 5): 4041– 4045. Bibcode : 1991PhRvB..43.4041C . doi : 10.1103/PhysRevB.43.4041 . PMID 9997752. 2021年2月4日時点のオリジナルよりアーカイブ(PDF) . 
  4. ^ a b c Yurchenko, Sergei N.; Sinden, Frances; Lodi, Lorenzo; Hill, Christian; Gorman, Maire N.; Tennyson, Jonathan (2018年2月1日). 「ExoMol ラインリスト XXIV: シリコンモノハイドライド SiH の新しいホットラインリスト」 . Monthly Notices of the Royal Astronomical Society . 473 (4): 5324– 5333. arXiv : 1710.06964 . Bibcode : 2018MNRAS.473.5324Y . doi : 10.1093/mnras/stx2738 . ISSN 0035-8711 . S2CID 53375098 .